Produktbild: Matching Properties of Deep Sub-Micron MOS Transistors
Band 851 - 13%

Matching Properties of Deep Sub-Micron MOS Transistors

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Beschreibung

Produktdetails

Einband

Gebundene Ausgabe

Erscheinungsdatum

24.03.2005

Verlag

Springer Us

Seitenzahl

206

Maße (L/B/H)

25/16,5/1,7 cm

Gewicht

490 g

Auflage

2005 edition

Sprache

Englisch

ISBN

978-0-387-24314-6

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Erscheinungsdatum

24.03.2005

Verlag

Springer Us

Seitenzahl

206

Maße (L/B/H)

25/16,5/1,7 cm

Gewicht

490 g

Auflage

2005 edition

Sprache

Englisch

ISBN

978-0-387-24314-6

Herstelleradresse

Libri GmbH
Europaallee 1
36244 Bad Hersfeld
DE

Email: gpsr@libri.de

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  • Produktbild: Matching Properties of Deep Sub-Micron MOS Transistors
  • Introduction: Matching analysis. Importance for circuit design. State of the art. Research objectives. Outline of this book.- Measurement and Modeling of Mismatch. Measurement setup. Experimental setup. Modeling of mismatch in the drain current. Width and length dependence. Example: Yield of a current-steering D/A converter. Conclusions.- Parameter Extraction. Extraction methods. Experimental setup. Comparison of extraction methods. Future issues. Conclusions.- Physical Origins of Mosfet Mismatch. Basic operation of the MOS transistor. Mismatch in the drain current. Physical origins of fluctuations. Conclusions.- Technological Aspects. Technology descriptions. Impact of the gate. Impact of the halo implantation. Comparison of di®erent CMOS technologies. Alternative device concepts. Conclusions.- Impact of Line-Edge Roughness. Characterization of line-edge roughness. Modeling the impact of line-width roughness. Experimental investigation of the impact of LWR. Prediction of the impact of LWR and guidelines. Conclusions.- Conclusions, Future Work and Outlook. Conclusions. Future work.- Outlook.