Handbook of Photomask Manufacturing Technology
421,99 €
inkl. gesetzl. MwSt.,
Beschreibung
Produktdetails
Einband
Gebundene Ausgabe
Erscheinungsdatum
07.04.2005
Abbildungen
schwarz-weiss Illustrationen, Raster,schwarz-weiss, Tabellen, schwarz-weiss
Herausgeber
Rizvi SyedVerlag
Taylor and FrancisSeitenzahl
730
Maße (L/B/H)
26/18,3/4,3 cm
Gewicht
1544 g
Sprache
Englisch
ISBN
978-0-8247-5374-0
As the semiconductor industry attempts to increase the number of functions that will fit into the smallest space on a chip, it is increasingly important for new technologies to keep apace with these demands. Photomask technology is one of the key areas to achieving this goal. This valuable reference provides a comprehensive summary of all areas of mask technology in a single work, featuring contributions from 40 internationally reputable authors from industry, academia, government, national labs, and consortia. They discuss conventional masks and their supporting technologies, as well as next-generation technologies such as extreme ultraviolet, electron projection, ion projection, and x-ray lithography.
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