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Ion Implantation and Synthesis of Materials

98,99 €

inkl. gesetzl. MwSt., Versandkostenfrei

Beschreibung

Produktdetails

Einband

Taschenbuch

Erscheinungsdatum

12.02.2010

Abbildungen

XIV, 131 illus., schwarz-weiss Illustrationen

Verlag

Springer Berlin

Seitenzahl

263

Maße (L/B/H)

23,5/15,5/1,6 cm

Gewicht

433 g

Auflage

Softcover reprint of hardcover 1st edition 2006

Sprache

Englisch

ISBN

978-3-642-06259-9

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Taschenbuch

Erscheinungsdatum

12.02.2010

Abbildungen

XIV, 131 illus., schwarz-weiss Illustrationen

Verlag

Springer Berlin

Seitenzahl

263

Maße (L/B/H)

23,5/15,5/1,6 cm

Gewicht

433 g

Auflage

Softcover reprint of hardcover 1st edition 2006

Sprache

Englisch

ISBN

978-3-642-06259-9

Herstelleradresse

Springer-Verlag GmbH
Tiergartenstr. 17
69121 Heidelberg
DE

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  • General Features and Fundamental Concepts.- Particle Interactions.- Dynamics of Binary Elastic Collisions.- Cross-Section.- Ion Stopping.- Ion Range and Range Distribution.- Displacements and Radiation Damage.- Channeling.- Doping, Diffusion and Defects in Ion-Implanted Si.- Crystallization and Regrowth of Amorphous Si.- Si Slicing and Layer Transfer: Ion-Cut.- Surface Erosion During Implantation: Sputtering.- Ion-Induced Atomic Intermixing at the Interface: Ion Beam Mixing.- Application of Ion Implantation Techniques in CMOS Fabrication.- Ion implantation in CMOS Technology: Machine Challenges.