Modeling of Chemical Vapor Deposition of Tungsten Films
-
- Englisch ausgewählt
46,99 €
UVP
53,49 €
inkl. gesetzl. MwSt.,
Beschreibung
Produktdetails
Einband
Taschenbuch
Erscheinungsdatum
20.11.2013
Verlag
Springer BaselSeitenzahl
139
Maße (L/B/H)
22,9/15,2/0,8 cm
Gewicht
215 g
Auflage
Softcover reprint of the original 1st ed. 1993
Sprache
Englisch
ISBN
978-3-0348-7743-5
Noch keine Bewertungen vorhanden
Verfassen Sie die erste Bewertung zu diesem Artikel
Helfen Sie anderen Kundinnen und Kunden durch Ihre Meinung.
Kurze Frage zu unserer Seite
Vielen Dank für Ihr Feedback
Wir nutzen Ihr Feedback, um unsere Produktseiten zu verbessern. Bitte haben Sie Verständnis, dass wir Ihnen keine Rückmeldung geben können. Falls Sie Kontakt mit uns aufnehmen möchten, können Sie sich aber gerne an unseren Kund*innenservice wenden.
zum Kundenservice