Transient Properties of HiPIMS Discharges
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Beschreibung
Produktdetails
Einband
Taschenbuch
Erscheinungsdatum
19.05.2014
Verlag
Scholar's PressSeitenzahl
212
Maße (L/B/H)
22/15/1,4 cm
Gewicht
299 g
Sprache
Englisch
ISBN
978-3-639-71646-7
HiPIMS (High Power Impulse Magnetron Sputtering) is a relatively new highly ionized sputtering technique used to deposit engineering quality thin films, with the advantage that the deposition flux can be guided to the substrate through the electrical biasing. As the technique is on the verge of being adopted by the industries, it is necessary to understand its physics very well so that thin films with tailored properties can be deposited. Therefore, time-resolved diagnostic studies have been carried out to get better physical insight of the HiPIMS processes. This book also provides information of lower deposition rates in HiPIMS discharge and suggests its solutions.
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